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產(chǎn)品名稱:

氮化硼超細(xì)研磨分散機

產(chǎn)品型號: GMD2000
更新時間: 2024-07-04
描述:SGN氮化硼超細(xì)研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

產(chǎn)品介紹

一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞

氮化硼超細(xì)研磨分散設(shè)備,氮化硼粉末濕法高剪切粉碎,德國進(jìn)口研磨粉碎設(shè)備,高轉(zhuǎn)速研磨分散機,改進(jìn)型膠體磨

 

二、研磨分散機的設(shè)計

SGN氮化硼超細(xì)研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

 

三、氮化硼的簡介

氮化硼由于其特性與石墨相似而質(zhì)地潔白,俗稱白石墨,有六方與立方兩種晶型,但通常呈六方結(jié)構(gòu)。在高溫與超高壓的特殊條件下,可將六方結(jié)構(gòu)晶型轉(zhuǎn)化為立方晶型。氮化硼由于機械強度高,在高溫下無負(fù)載軟化現(xiàn)象,可作機械加工車削。氮化硼使用范圍廣泛,其粉末可作優(yōu)良的潤滑劑與脫模劑,合成工程陶瓷材料后可用作熔煉蒸發(fā)金屬的坩堝、 舟皿、液態(tài)金屬輸送管、戰(zhàn)斗機、火箭起飛噴口,大功率器件底座,半導(dǎo)體元件摻雜源,以及 各種高溫、高壓或高頻的絕緣散熱部件。而立方氮化硼則為近似于金剛石的超硬材料。

 

四、研磨分散機的工藝

上海思峻的氮化硼超細(xì)研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

 

五、GMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)

研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出z終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。


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六、研磨分散機的結(jié)構(gòu)

GMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

 

七、從設(shè)備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個z重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是z重要的。

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